ブラックマーキングや撥水などの表面テクスチャリング加工から群速度分散補正機能により多焦点2光子顕微鏡にも最適な高出力空冷ファイバーレーザーが誕生しました。
アプリケーション
- レーザーマーカ / ナノテクスチャリング / 撥水加工
- 多焦点二(多)光子顕微鏡
- 3Dプリンタ(2PP)
オプション
- パルス幅可変域拡張:270 fs~20 ps
仕様
Technical specification
発振中心波長 | 1035 ±5 nm |
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平均出力 | > 5 W@1 MHz(>7 W@20 MHz) |
発振繰り返し可変域 | シングル~20 MHz(モード同期 20 ±2.5 HHz) |
対物分散補正値 | ~100,000 fs2 |
パルスエネルギー | > 5 µJ@1 MHz |
出力安定性 | < 0.5% RMS@12 h |
パルス幅 | < 270 fs@5 µJ |
パルス幅可変域 | < 270 fs~8 ps(オプション 270 fs~20 ps) |
出力ビームモード M2 | < 1.2 |
ビーム径 | 2.0 ±0.2 mm(お問合せ) |
冷却方式 | 空冷 |
偏光 | 直線:垂直 |
外部アナログ変調 | 可 |
外部トリガ | 可 |
コントロールソフトウエア | レーザー操作用PCにインストール済み |
Physical Specification
Head Size | 400 (L) x 320 (W) x 115 (H) mm |
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Electrical | 100 - 240 VAC, 50 - 60 Hz |
Operating temperature | 15 - 35℃ |
Operating humidity | No-condensing |
外形寸法図
電源
- サイズ:449 (W) x 445 (D) x 177 (H) mm(19インチラック4U)
- 重さ:13 Kg
- 電力:100 - 240 V AC, 50 - 60 Hz, < 300 W
技術資料
データシート
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