G&H社では、材料の光学的・機械的特性に関する知識と、オプティクス製造におけるあらゆる知識・能力を組み合わせることで、高精度な仕上げ処理、また高品質の自社コーティング(AR、HR、ブロードバンド狭帯域)を備えた、精密オプティクスを提供しています。
精密光学素子、スタンダード光学部品
40年の経験に基づき制作するレンズ、プリズム、波長板、オプティカルフラットなどの光学部品から航空機などに搭載する各種精密窓だけでなく、光ジャイロに用いるゼロデュアセラミック材を用いた精密ブロックの作成や、エンジンの燃焼試験に用いるモニタ用シリンダーライナーなど、特殊用途の精密光学部品も制作しています。
各種の誘電体蒸着(コーティング)も行います。優れた切削、研磨、コーティング技術で、カスタム仕様にお応えします。
高精度オプティクス
光学ガラス、石英、サファイア、方解石、LiNbO3、ゼロデュア、アルミナセラミックス、フェライトなどの各種光学材料を使用し、平面・凹凸ミラー、波長版、各種プリズム、偏光プリズムなど多種多様な高精度な光学部品を製造しています。
ご仕様をお知らせください。
スタンダードオプティクス
秒単位の角度精度、λ/10の平面度などのご仕様のプリズム、光学入射窓、ミラーなどを製造しています。
最大径で150mmの平面基板などの加工も可能です。
テレコム用各種光学部品
超小型の複屈折光学部品、極薄結晶石英波長板など光通信の分野でご利用いただく各種光学部品を製造しています。
研究開発用試作から大量生産まで承ります。ご仕様をお知らせください。
複屈折オプティクス
ウオラストンプリズム、ローテータ、サヴァート板などまで各種高精度複屈折素子の製造をしています。
ご仕様やサイズをお知らせください。ご用途に応じた複屈折オプティクスを製造します。
複屈折クリスタルオプティクス
赤外域(3~13µm)で使用可能な波長板を製造しています。
ゼロオーダ・マルチオーダの波長板の製造から AR コーティング、固定用ハウジングまで対応しています。
ご仕様をお知らせください。
エンジン燃焼モニタ用透明ファーネス・ライナー
高電圧絶縁、耐化学薬品腐食性、高真空性、耐高温特性を持つ様な精密な加工を施したガラスブロックの製造が可能です。
エンジン内部の燃焼モニター用のライナなどを製造しています。
カルサイト(方解石)プリズム
グランレーザー、グラントムソン、フォスター、ローション、ウオラストンなど 多種類の偏光プリズムを製造しています。
表面にARコーティングを施し、エスケープウィンドーがあるマウントにも取り付けて提供しています。
Nd:YAGスラブ結晶加工
レーザー用として、通常ロッド形状で用いるNd:YAG結晶をお客様の仕様により大型のスラブ構造に研磨し提供しています。
スラブ方式ではレーザー光は結晶内面で全反射させるため損失の少ない高精度な研磨が要求されます。
G&Hではお客様のご仕様に対応したスラブ形状のNd:YAG結晶を高品質に加工し提供しています。
高ダメージしきい値波長板
天然のまた人造の方解石を用い各種波長板を製造しています。
非常に薄い波長板から100mmを超える直径の大口径波長板まで製造可能です。
高品質な人造方解石を用いると紫外広域で損傷や性能低下が非常に少ない波長板の製造も可能です。
超精密光学素子
G&H社 カリフォルニア事業所では、表面粗さ1オングストローム以下の平面や凹面を製造できるスーパーポリッシュ研磨法と反射率 99.99% 以上が実現できるイオンビームスパッタリング(IBS)方式などのコーティング技術を基にした高精度基板、高反射・低損失ミラーなどを製品化しており、SiC基板研磨、サファイア基板研磨、リングレーザージャイロスコープフレーム(ブロック)、高性能エタロンを販売しています。
軍こと・航空、半導体製造装置、度量衡などの精密測定機器、光通信用部品、レーザー用高性能部品、医療応用装置などの分野で利用頂いています。
平面基板、凹面基板
- 平面粗さ 1オングストローム以下
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レーザー品質
平面度 1/10λ
スクラッチ&ディグ 10/5 - コーティング材質 誘電体多層膜、金属薄膜
- ご要求により、基板材質、基板サイズおよび開発試作にも対応します。
-
Zygo社のヘテロダインプロファイラによる基板表面形状測定結果を添付した製品もあります
(別途料金が必要です)。
コーティングサービス
G&H 社が作成した平面基板や凹面基板に、お客様の仕様による高反射や低損失の薄膜をコーティングするサービスです。
コーティング機器として、イオンビームスパッタリング(IBS)、イオンアシストデポジション(IAD)、eビームコーティングなどの多数のチャンバーを有しており、低散乱 5ppm以下の低散乱、
5ppm以下の低い吸収で直径12インチの基板上で1% 以下の均一な膜を得ることができます。
蒸着膜の種類としては、TiO2、Ta2O5、HfO2、ZrO2、SiO2、Al2O3、Mgf2、Sc2O3、Nickelなどでコーティングする物質としてはチタン、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、シリコン、シリコンカーバイド、アルミニウム、銀、クロムを用いています。
G&Hで行うコーティングの代表例としては 次のようなコーティングが可能です。
- 低損失・高反射率コーティング
- デュアルバンド 低損失・高反射率コーティング
- 半透過膜、ビームスプリッターコーティング
- ARコーティング 反射率 0.1% 以下
- V型 ARコーティング 反射率 0.01% 以下
- ブロードバンド ARコーティング
SiC(シリコンカーバイド)基板研磨
従来用いられていたベリリューム基板に代わるシリコンカーバイド(SiC)の基板の研磨ができます。
また研磨した SiC 基板上に各種コーティングを行うサービスもします。
サファイア基板研磨
通常研磨しづらいサファイア基板を、表面粗さ1オングストローム以下で研磨します。
X線・シンクロトロン放射光用光学素子(ミラー)
Siの長方形や楕円形状のミラーが作成可能です。表面粗さは1オングストローム以下です。
リングレーザージャイロスコープ(RLG)フレーム(ブロック)と光学素子
低熱膨張材であるゼロデュアセラミックを用いたRLGのフレーム(ブロック)を製造しており、世界中でほとんどのRLGメーカーがG&H社が製造したフレームを用いています。
エタロン
1オングストローム以下の平面粗さが得られるスーパーポリッシング技術と磁気流体を用いた最終研磨法と波長掃引レーザーを使用し、エタロン全面に渡り2nm/mmより良い基板厚さの管理をしています。
エタロン表面のコーティングとしてはイオンビームスパッタ法により高密度で最小の表面ストレスの高反射膜(HR)や半透明膜(PR)を実現しており、CバンドやLバンドの代表的なHRとしては99.998% より良い反射率を実現しています。
フリースペクトルレンジ(FSR)としてはITU規格に対応する 25GHz、50GHz、100GHz、200GHzのエタロンが供給可能です。
またお客様のご要求により、FSRとして2GHzから300GHzのエタロンが製造可能です。
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