EUV ブロードバンドミラー

EUV スペクトル領域の多層膜ミラーは入射角とスペクトル領域(通常: Dl = 0.5 nm, Dq = 10°)が制限されてきました。

この新しいコーティングデザインはこの使用可能範囲を広げました。この結果、大きく曲率のある材質へコーティングができるようになり、ブロードバンドミラーは広域のプラズマ源とともに使用できるようになりました。

用途

  • システムとしての反射率増強
  • プラズマ源の特長描写
  • EUV 分光(例:天文物理)
  • 高次オーダー反射の抑制
  • 曲率のある材質のコーティング

カスタマイズ

  • カスタム仕様のブロードバンド EUV ミラーの製作
  • 特殊波長範囲の最適化
     例: 2.5~15.5 nm、13~14 nm
  • 入射角範囲の最適化
     例: 0°~20°、 0°~30°
  • 異なる材質への蒸着
     例: シリコン、ゼロデュア™、ULE™

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