EUV ナローバンドミラー

通常 EUV 範囲の多層膜ミラーは狭波長範囲(通常:Δλ ≈ 0.5 nm at λ=13 nm)であるためモノクロメーターとして使用されてきました。新しいコーティングデザインはこの分解能の問題を改善しました。

左グラフは、ベルリンのシンクロトロン BESSY II において反射計 PTB にて測定された EUV ナローバンドミラーの波長 13.5nm での反射率です。半値全幅(FWHM)が高次反射オーダーで大きく改善されています。吸収率がより高くなるため反射率が減少します。したがって最適なコーティングデザインは反射率と FWHM の間で検討されなければいけません。

用途

  • シンクロトロン源のモノクロメーター
  • プラズマ源のモノクロメーター
  • 分光(例、天文物理)
  • 短パルスレーザーの高調波の選択
  • プラズマ源の特徴描写

カスタマイズ

  • カスタム仕様のブロードバンド EUV ミラーの製作
  • 特殊波長範囲の最適化
     例: 2.5~ 15.5 nm, 13~
  • 入射角範囲の最適化
     例: 0°~ 20°, 0°~ 30°
  • 異なる材質への蒸着
     例: シリコン、ゼロデュア™、ULE™

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