大口径 KD*P ポッケルスセル
TX シリーズ
TXポッケルスセルは、KD*P結晶を使用した大口径ポッケルスセルです。本ポッケルスセルは入射窓と結晶の隙間間隔の微調ができる様に設計されたホルダー構造となっています。
このポッケルスセルは、高速スイッチング、低挿入損失、高透過率を特長とし、レーザーシステムにおけるQスイッチングやパルスピッキングに最適です。
G&H社が自社工場で成長させた高品質のKDPおよびKD*P結晶を使用し、厳格な品質管理の下で製造されています。
このポッケルスセルは、低電圧動作、高い消光比、高エネルギーハンドリング能力を兼ね備えており、商業用途および研究開発用途の両方に理想的なソリューションです。
アパーチャーは、19.5 mm、22.5 mm、33.5 mm、49.5 mm、73.5 mm、99.0 mmをご用意しています。
オプションとして、特定のサイズで99％重水素化KD*P利用可能
G&H社の高度な技術と製造プロセスにより、最高の信頼性と性能を提供します。
特長
- 入射窓と結晶の隙間の間隔をサブmm単位で軸方向に微調可能
- 入射/出射窓の平行度を秒角で調整するための224 TPI微調整ネジ
- 簡単な流体排出または補充のためのダブルフィル/ドレインポート
- 便利な検査または清掃のための個別にアクセス可能な結晶面
- 50Ω伝送ライン駆動構成が標準
- クリーンな組立のための精密に削られたエポキシフリーの構造
用途
- 核融合やマイクロリソグラフィなどの用途に使用されるペタワット/テラワットレーザーにおけるQスイッチングおよび光アイソレータ
仕様
| Optical material | KD*P |
|---|---|
| Material purity | 95%*1 |
| Wavelength | 300–1300 nm |
| Contrast Ratio | > 8000:1 |
| Active Aperture | 19.5–99.0 mm |
| Repetition Rate | 1 kHz |
| Single pass insertion loss | < 3.5–7% (@ 1064 nm) |
|---|---|
| Voltage contrast ratio (VCR) | > 2500:1 (@ 1064 nm, parallel polarizers) |
| Single Pass Distortion | < λ/20 |
| Capacitance (DC) | 23–115 pF |
| DC quarter-wave voltage | 3.2–3.9 kV @ 1064 nm |
| LIDT | > 10 J/cm2 (1064 nm, 10 ns pulse, 10 Hz, 1 mm diameter) |
-
*199% deuterated KD*P and UV-grade KDP also available in certain sizes.
| Typical Specifications | TX2042 | TX2650 | TX3460 | TX5065 | TX7595 | TX100D |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Hard aperture | 19.5 mm | 25.5 mm | 33.5 mm | 49.5 mm | 73.5 mm | 99.0 mm |
| Single pass insertion loss @ 1064 nm | < 3.5% | < 4% | < 5% | < 5% | < 6.5% | < 7% |
| DC quarter wave voltage @ 1064 nm | 3.2 kV | 3.2 kV | 3.4 kV | 3.5 kV | 3.7 kV | 3.9 kV |
| Capacitance @ 1 kHz | 23 pF | 27 pF | 32 pF | 56 pF | 86 pF | 115 pF |
| 10-90% risetime | 1 ns | <2 ns | 2 ns | 3 ns | 5 ns | 7 ns |
技術資料
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